LEDの高効率化に興味がある方は、是非ともご来場頂き、『LEDの光取り出し効率等光学特性解析』や『高輝度LED実現のためのナノインプリントテクノロジー』というテーマの展示をご覧ください。
日本アールソフトデザイングループ株式会社では、4月14日（水）−16日(金) 東京ビッグサイトにて開催される『第2回次世代照明 技術展』において、FullWAVE、DiffractMOD等最新のフォトニック関連シミュレーション・ソフトウェアを事例デモと共に紹介致します。 LEDの高効率化には、内部量子効率、光取り出し効率等、様々な要因がかかわっておりますが、FDTD法やRCWA法を用いたシミュレーション・ソフトウェアの活用方法について、波動/電磁界解析や光取り出し効率の評価等、LEDへの使用事例をベースにして紹介致します。 ナノ構造のフォトニック結晶等を使ったLEDの光取出し効率等光学特性を解析するFDTD法ソフトウェアで、並列演算機能と不均一メッシュ生成機能により大規模な3次元空間の高速シミュレーションも可能なFullWAVE、及び表面にサブミクロン周期構造を持った材料の回折効率や透過率、反射率、吸収率等を高速且つ正確にシミュレーションするRCWA法をベースにしたDiffractMODについて、ナノ構造を用いたLEDの高効率化に関する使用事例を紹介致します。 更に、FullWAVEの応用事例として、高輝度LED実現のためのナノインプリントテクノロジーについても、FullWAVEユーザのSCIVAX（サイヴァクス）株式会社様から紹介させて頂きます。SCIVAXは同社の開発したナノインプリント（超微細加工）技術によりLED素子内に超微細構造を形成し、素子内での光の反射を抑制し、LEDの光取り出し効率の向上させることに成功しました。ナノインプリントにより形成する超微細構造の最適化にFullWAVEが用いられております。 皆様のお越しをお待ちいたしております。 ■「第2回次世代照明 技術展」 概要 開催日時：2010年4月14日（水）から15日（木） 10：00 - 18：00 16日（金） 10：00 - 17：00 開催会場：東京ビッグサイト 東展示棟 弊社ブース番号：L 2-6 http://www.lightingjapan.jp/ 【本件に関するお問い合わせ先】 日本アールソフトデザイングループ株式会社 担当：営業部 赤木京一 〒105-0014 東京都港区芝1-9-6 マツラビル2F TEL:03-5484-6670 FAX:03-5484-2288
日本アールソフトデザイングループ株式会社では、4月14日（水）−16日(金) 東京ビッグサイトにて開催される『第2回次世代照明 技術展』において、FullWAVE、DiffractMOD等最新のフォトニック関連シミュレーション・ソフトウェアを事例デモと共に紹介致します。